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        MC1000離子濺射儀

        產品簡介:MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細高端需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。

        • 更新時間:2019-03-11
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        詳細介紹

        日立MC1000離子濺射儀是由日立高新技術公司自行設計制造,針對掃描電鏡的精細高端需求而設計,適合微觀結構較復雜的樣品,尤其適合于場發射掃描電鏡的高倍率觀測應用。

        主要特點:
        1. 操作方便且有記憶功能,LCD觸摸屏控制技術,可存儲五種處理方案;
        2. 通過磁場控制金屬顆粒的濺射噴鍍軌跡,從而使鍍層更均勻;
        3. 通過選配測量單元可實現1nm至30nm的鍍層厚度控制。
         
        應用領域:
        離子濺射儀在掃描電鏡中應用十分廣泛,通過向樣品表面噴鍍金、鉑、鈀及混合靶材等金屬消除不導電樣品的荷電現象,并提高觀測效率,另外可以使用噴碳附件對樣品進行蒸碳,實現不導電樣品的能譜儀元素定性和半定量分析。

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